FO 1200メッシュ光学微粉末 D50:7.1±0.7μm
| アイテム | サイズ | 比重 | Al2O3 | SiO2 | Fe2O3 | 二酸化チタン | ZrO2 |
| FO光学微粉末 | 1200メッシュ | ≥3.90 | 45.0%以上 | ≤20.0% | ≤0.5% | ≤2.0% | ≤33.0% |
FO 1200メッシュ光学微粉末のPSD（粒度分布）D50：7.1±0.7μm
| サイズ | D0（ウム） | D3（μm） | D50（1個） | D94(um) |
| 1200メッシュ | ≤23.0 | ≤20.0 | 7.1±0.7 | ≥4.0 |
FO光学微粉末の主な用途
半導体ウェハーの研削および研磨
各種光学ガラスの表面仕上げ
光学結晶のレンズ、プリズム、ミラー、フィルターなどの研削および研磨。
圧電材料の表面仕上げ
FO光学微粉末の包装
10kg入りPVC袋＋パレット
